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原裝E+H光(guāng)譜分析儀常見(jiàn)分類方法
原裝E+H光譜分析儀常見分類方法E+H光譜分析儀的種類(lèi)繁多,常見的分(fèn)類方法(fǎ)如下:按工作光譜(pǔ)的區域分類:紫外-可見光(UV-VIS)光譜儀、可見光(VIS)光譜儀、紫外-可見光-近紅外(VIR)光譜儀等類型(xíng)
原裝E+H光譜分(fèn)析儀常見分類方法
E+H光譜分析儀的種類繁(fán)多,常(cháng)見的分類方法如下:
按工作光譜的區域分類:紫外-可見光(UV-VIS)光譜儀、可見(jiàn)光(VIS)光譜儀、紫外-可見光-近紅外(VIR)光譜儀等類型
按(àn)分(fèn)光係統分類:棱鏡分光光譜儀、光柵分光光譜儀、濾色片(piàn)分光光譜儀
按光路數量(liàng)分類:單路光譜儀(yí)、多路光譜儀
按探測(cè)器分類:在可見光範圍內(nèi)主要有PMT光譜儀和(hé)CCD光(guāng)譜儀兩種,在紫外、近紅外範圍(wéi)內還有專門的探測器類型
按掃描方式分類:機械(xiè)掃描式光譜儀、快速掃描式光譜儀
按測量對象(xiàng)和測量結果的用途分(fèn)類(lèi):分析用光譜儀、光色測量用光譜儀
在(zài)照明(míng)行業,通常使用的都是可見光光色測量光(guāng)譜儀,又細分為機械掃(sǎo)描式和陣(zhèn)列掃描式兩種
單色儀有入射和(hé)出射兩個狹縫,入射狹縫用來限製雜散光(guāng)的(de)進入,一般位於準直鏡的焦點(diǎn)上。出射狹縫用來限製光譜帶寬,一般位於物鏡的焦點(diǎn)上。狹縫通常由兩(liǎng)個具有銳利刀口的精密金(jīn)屬片構成,分為固定狹縫、單邊可調非對稱式(shì)狹縫和雙邊可調對稱狹(xiá)縫幾種。用(yòng)於光色測(cè)量的亮度計中,兩個狹縫通常設計為等寬(kuān),且不能自行調節。在用(yòng)於材料分析的亮(liàng)度計中(zhōng),狹縫往往設計成可由儀器自動調節寬度。
E+H光譜分析儀一般由分光係統、接收係統和數據處理係統組成,其工作(zuò)原理是(shì)將(jiāng)光源發出的複色光按照不同的波長分離出來,配(pèi)合各種光(guāng)電探測器件對譜(pǔ)線強度進行測量,獲得光(guāng)譜功率(輻射)分布,再計算出色(sè)品坐標、色溫、顯色指數、光通、輻(fú)射通量等光色性能(néng)參數。
原裝E+H光譜分析儀常見分類方法